レーザーマーキング彫刻機用CVD ZnSe CO2 10.6m 3Xレーザービームエキスパンダー

CO ₂レーザー用ビームエキスパンダー

固定、可変またはズーム倍率およびZnSe光​​学系を備えたCO2レーザー用のビームエキスパンダ。

ビームエキスパンダには、レーザー業界における2つの主な目的があります。

• 焦点におけるパワー密度の増加
• 長距離ビームガイド

ビームエキスパンダは、ガリレオの原理に従って構築された2つのレンズで構成されているため、中間焦点は生成されません。これらのシステムは、最大100 Wの標準的な中電力レベルに適しています。さまざまな設計があります。

固定エキスパンダは、焦点範囲を再調整できない安価なシステムです。入射ビームの発散/収束を補正することは不可能です

可変エキスパンダ

可変エキスパンダを用いると、レンズ間の間隔は入射ビームの発散を補償するように修正することができる。全長は±3 mm変動する可能性があります。

ズームエキスパンダーでは、無限の可変倍率レベルを元のサイズの2〜8倍の範囲で設定できます。変動性が高いため、これらのエキスパンダーは実験室では非常に一般的です。

エキスパンダーは可変です。すなわち、発散／収束を補償することが可能である。

逆に使用すると、ビームエキスパンダはビーム径を小さくすることができます。

カスタムメイドのビームエキスパンダーもご利用いただけます、詳細についてはご自身の設計をご記入ください

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